[摘要]国产90nm光刻机能生产14nm的芯片吗？根据技术上的常规实践和限制来看，一台90纳米（nm）光刻机通常无法直接用于生产14纳米（nm）芯片。这是因为光刻机的分...
国产90nm光刻机能生产14nm的芯片吗？
根据技术上的常规实践和限制来看，一台90纳米（nm）光刻机通常无法直接用于生产14纳米（nm）芯片。这是因为光刻机的分辨率决定了它可以实现的最小特征尺寸。90nm光刻机适用于制造90nm及更大尺寸的芯片，而14nm芯片需要更高分辨率的光刻机来实现其复杂的纳米级图案。
制造14nm芯片通常需要使用更先进的光刻技术，例如多重曝光、多重模板和更高的分辨率光刻机。这些技术和设备能够在硅片上实现更小、更密集的电子元件，以提供更高的性能和更低的功耗。
虽然国产90nm光刻机无法直接生产14nm芯片，但中国的半导体制造业正在积极发展和提升技术水平。中国已经在半导体制造领域取得了一些重要的突破和进展，逐步缩小与国际领先技术的差距。随着技术的进步和投资的增加，中国的半导体产业有望在未来实现更先进的制程和更高级别的芯片生产能力。
国产90nm光刻机能生产14nm的芯片吗？
最近，上海传出了一则振奋人心的消息，大意是“14纳米先进工艺规模实现量产”；
消息一经传出，大家纷纷猜测90nm国产光刻机在其中起到了至关重要的作用，这也让国产光刻机再次走进人们热议视线。
光刻机又称掩模对准曝光机，是芯片加工过程中用于去除“晶圆表面涂抹的光刻胶”的一种重要设备。
目前市场上的主流光刻机分为两大类，一是EUV光刻机、二是DUV光刻机，前者目前是最先进的光刻机，能制造5nm的高端芯片，也只有荷兰的ASML才掌握。
受限于出口限制，目前国内尚没有一台EUV光刻机，但我们有DUV光刻机，其中上海微电子装备股份有限公司就是光刻机的代表企业。
上海微电生产的光刻机，目前处于90nm水平。虽然较ASML仍有较大的差距，但纵观国内，比起国内其他半导体公司仍停留在200nm工艺，上海微电绝对是行业翘楚。
上海微电所生产的国产SMEE200系列光刻机，几乎是国内光刻机“先进”的代名词。
9月14日，“上海发布”发布了一则消息，提到14nm芯片实现量产。
结合目前国内最先进的光刻机是90nm，不少人大呼上海微电以90nm光刻机为平台，可以实现14nm芯片生产了，国产芯片行业再迎跨越，振奋不已。
那么实打实地说，90nm光刻机真的能生产14nm制程的芯片吗？14nm芯片的量产，真的得益于上海微电自产的光刻机吗？
关于这一问题，大家先要走出一个误区，不要误认为只有14nm的光刻机才可以生产14nm制程的芯片，理论上90nm光刻机是可以生产90nm制程以下的芯片的。
这一原理类似于照相机的底片，发烧友应该知道，底片经过多次曝光，是可以得到更清晰照片的。
以这个原理为基础，90nm的光刻机，在生产芯片时，倘若经过两次“曝光”，理论上可以生产出45nm的芯片；以此类推，经曝光三次，22nm的芯片就生成了。
当然，理论归理论，在“无限”曝光能得到更短制程芯片的同时，有一个问题不容忽视，那就是“良品率”。
事实上，曝光次数越多，那么良品率就越低，即便经4次曝光能生产出14nm的芯片，大部分芯片也无法用于“实战”，说白了就是废品。
所以，90nm光刻机用于生产14nm芯片，理论上可行，但鉴于较低的良品率，实际用于量产的可能性微乎其微，毕竟要考虑到“合格率”。
再就是即便不计良品率，采用多次曝光的方式来缩短芯片的制程，恐怕成本上也吃不消。事实上曝光次数越多，成本就会随之陡增。对比起来，与其自产，还不如进口，毕竟高昂的成本也是要考虑的问题。
因此，无论是站在良品率还是成本的角度上，14nm芯片实现量产的功劳恐怕是不能算在国90nm光刻机的头上的。
既然实践中，90nm国产光刻机用于量产14nm芯片的可能性几乎为0，那么此次上海宣布14nm芯片实现量产，究竟是怎么回事呢？得益于谁呢？
结合以往的消息，早在去年的时候，国内半导体行业龙头中芯国际就传出已向ASML公司采购价值11亿美元光刻机的消息。
据悉，采购的这批光刻机是深紫外线光刻机，也就是248nm、193nm光源为核心部件的光刻机，虽然距EUV光刻机有较大的技术差距，但算得上是ASML公司的二线产品，理论上能用于生产0-130nm制程的芯片，14nm制程芯片实现量产自然不在话下。
另外，今年第一季度的时候，荷兰ASML就已经向中芯国际交付了23台DUV光刻机。也正是得益于23台光刻机的交付，中芯国际才宣称14nm工艺芯片实现量产。
综合以上消息推测，此次实现14nm制程芯片的量产，很有可能利用的还是进口光刻机，而非上海微电国产的90nm光刻机。
当然，以上也仅限于猜测，实际上早在2021年底，一条“低调”的消息是上海微电即将交付28nm光刻机，而28nm光刻机理论上经两次曝光后，是可以量产24nm芯片的，虽然良品率较低、成本微高。
不排除上海微电已经掌握生产28nm光刻机并交付市场的可能性，以此用于14nm芯片的量产。
当然，现在公开消息显示上海微电对外宣称的最先进光刻机依然停留在90nm。
综上来说，无论是14nm芯片量产的消息，还是上海微电在光刻机国产方面取得的重大突破，这都值得我们兴奋。但事实求是地说，真让90nm国产光刻机去量产14nm芯片，恐怕是不现实的。
当然大家也不要过度的悲观，实际上即便5nm芯片是目前几乎最先进的技术，我们尚不掌握，但从市场角度而言，能用到5nm及以下制程芯片的领域很窄，实际上结合2020年的相关统计，应用14nm及以上工艺的芯片占全球芯片市场的82%左右，这才是主流市场。而一旦我们实现了14nm芯片的量产，理论上我们可以在主流制程芯片市场上角逐和竞争。
光刻机和芯片领域我们起步较晚，当下又遭遇了技术封锁，但我们的信心是存在的，不会仅限于14nm芯片的量产，我们一向能在打压中实现突破，想必将来，我们一定能迎头赶上，5nm、3nm都不在话下，当然这需要长期的追赶，不是一朝一夕就能一蹴而就的。
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